English version

Formularz logowania

zarejestruj się


Drukuj

D. Bieliński, P. Głąb, L. Ślusarski

Zastosowanie metody FT-IR i pomiaru twardości metodą nanoindentacji do bada­nia

przebiegu fotosieciowania żywicy poliestrowej

Polimery 2001, nr 7-8, 494


Streszczenie

Postęp reakcji fotosieciowania w cienkiej warstwie (1,0-3,5 mm) żywicy poliestrowej (PES) zbadano metodami FT-IR i pomiaru twardości (nanoindentacja). Zgodnie z oczekiwaniami stwierdzono zależność twardości powłoki od czasu naświetlania (rys. 3). Metodą FT-TR potwierdzono, że sieciowanie żywicy zachodzi według mechanizmu polegającego na kopolimeryzacji oligoestru ze styrenem. Otrzymano bardzo dobrą korelację pomiędzy wynikami spektroskopowymi (FT-IR) a uzyskanymi na podstawie nanoindentacji (rys. 5). Wskazano na istnienie powierzchniowego gradientu usieciowania. niemożliwego do zbadania konwencjonalnymi metodami pomiaru twardości; gradient ten może mieć daleko idące konsekwencje z punktu widzenia trwałości materiałów i powłok polimerowych.


Słowa kluczowe: żywica poliestrowa, warstwa wierzchnia, twardość, fotosieciowanie, nanoindentacja, FT-IR

D. Bieliński, P. Głąb, L. Ślusarski (413.1 KB)
Zastosowanie metody FT-IR i pomiaru twardości metodą nanoindentacji do bada¬nia przebiegu fotosieciowania żywicy poliestrowej